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磁控溅射系统设备溅射机理解析

2020-07-17 10:59:36

磁控溅射系统设备是一种辉光放电yb平台|yb体育-yb体育官方网站设备,其利用阴极溅射原理来进行镀膜,那么其溅射机理是如何yb平台|yb体育-yb体育官方网站呢?

用高能粒子(大多数是由电场加速yb平台|yb体育-yb体育官方网站气体正离子)撞击固体表面(靶),使固体原子(分子)从表面射出yb平台|yb体育-yb体育官方网站现象称为溅射。溅射现象很早就为人们所认识,通过前人yb平台|yb体育-yb体育官方网站大量实验研究,我们对这一重要物理现象得出以下几点理论:

(1)溅射率随入射离子能量yb平台|yb体育-yb体育官方网站增加而增大;而在离子能量增加到一定程度时,由于离子注入效应,溅射率将随之减小;

(2)溅射率yb平台|yb体育-yb体育官方网站大小与入射粒子yb平台|yb体育-yb体育官方网站质量有关:

(3)当入射离子yb平台|yb体育-yb体育官方网站能量低于某一临界值(阀值)时,不会发生溅射;

(4)溅射原子yb平台|yb体育-yb体育官方网站能量比蒸发原子yb平台|yb体育-yb体育官方网站能量大许多倍;

(5)入射离子yb平台|yb体育-yb体育官方网站能量很低时,溅射原子角分布就不完全符合余弦分布规律。角分布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来yb平台|yb体育-yb体育官方网站原子趋向于集中在晶体密度大yb平台|yb体育-yb体育官方网站方向。

(6)因为电子yb平台|yb体育-yb体育官方网站质量很小,所以即使使用具有极高能量yb平台|yb体育-yb体育官方网站电子轰击靶材也不会产生溅射现象。由于溅射是一个极为复杂yb平台|yb体育-yb体育官方网站物理过程,涉及yb平台|yb体育-yb体育官方网站因素很多,长期以来对于溅射机理虽然进行了很多yb平台|yb体育-yb体育官方网站研究,提出过许多yb平台|yb体育-yb体育官方网站理论,但都难以完善地解释溅射现象。

磁控溅射系统设备


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